Магнетронное напыление

Процесс
магнетронного напыления позволяет осаждать пленки широкого спектра
материалов с вариацией толщины от десятков нанометров до нескольких
микрон. В настоящее время компания Oxford Instruments производит одну
систему магнетронного напыления.

Plasmalab System400 Magnetron Sputtering Process T
Plasmalab®400 – система магнетронного напыления с несколькими мишенями.

