Oxford Instruments Plasma Technology
Компания Oxford Instruments Plasma Technology предлагает гибко настраиваемое оборудование для постановки передовых технологических процессов и изготовления микро и нано-структур.
|
Компания OI Plasma Technology производит системы классом от отдельных компактных установок для решения исследовательских задач и опытного производства до кластерного оборудования высокой пропускной способности для решения задач промышленного производства. Все системы поставляются с программным обеспечением PC2000TM, настроенным точно под поставляемую систему. Отличительной особенностью работы компании является всесторонняя поддержка пользователей, отказоустойчивость оборудования и обширная база данных по процессам для работы с различными материалами. Благодаря высокому качеству оборудованию OI Plasma Technology является общепризнанным лидером в области плазмохимических процессов. На данный момент по всему миру установлено около 3000 систем.
Атомно-слоевое осаждение (ALD) предоставляет широкие возможности прецизионно контролируемого осаждения ультратонких слоев для приложений нанометровых и суб-нанометровых областях с равномерным покрытием структур с высоким аспектным соотношением.
Компания Oxford Instruments производит и поставляет исследовательское и промышленное оборудование для решения задач микроэлектроники. В частности, существует ряд систем для проведения процессов плазменного осаждения и травления слоев различных материалов:
Системы ионного травления и нанесения. В линейку включены две системы: Ionfab300Plus и Ionfab500. Ionfab300Plus представляет собой универсальную ионную систему широкого применения. Ionfab500 специально создавалась для нанесения высококачественных покрытий в оптике.
Процесс магнетронного напыления позволяет осаждать пленки широкого спектра материалов с вариацией толщины от десятков нанометров до нескольких микрон. В настоящее время компания Oxford Instruments производит одну систему магнетронного напыления: Plasmalab®400 – система магнетронного напыления с несколькими мишенями.
Системы Nanofab700 и Nanofab800Agile позволяют выращивать нанотрубки и нанопровода с высокой скоростью роста и полностью контролировать процесс роста. Наноструктуры выращиваются в местах каталитической активации. Основные достоинства данных систем обусловлены использованием нетеплоемких материалов устойчивых к температурным стрессам, что позволяет обеспечивать высокие пропускаемые мощности. Скорости нагревания подложкодержателя достигают 130 °С/мин. Столь высокий показатель достигнут благодаря использованию специально сконструированной PBN платы нагревателя, в то время как использование керамического нагревателя ограничивает скорость нагревания до значения около 15 °С/мин.
OIPT является одним из мировых лидеров в производстве систем для эпитаксии из паровой фазы гидридов и производства новых составных полупроводников на основе GaN, AlN, AlGaN, InN, InGaN. Эти материалы имеют разнообразные применения: твердотельное освещение, коротковолновая оптоэлектроника, высокочастотная мощностная электроника...
Oxford Instruments предлагает уникальное семейство технологических решений для анализа отказов. Гибкие системы анализа отказов позволяют проводить весь спектр процессов: от удаления пассивирующих слоев до удаления анизотропных оксидных слоев, исследование как маленьких кристаллов или приборов в корпусе, так и полупроводниковых пластин размером вплоть до 300 мм.