Ionfab 300Plus
Модульная ионно-лучевая система Ionfab300Plus создана для проведения ионно-лучевых процессов нанесения и травления. Данная система находит применение в широком спектре приложений, в частности в микроэлектронике и при нанесении покрытий в оптике.
Система Ionfab300Plus позволяет проводить ионно-лучевое травление и осаждение из нескольких источников. Системой реализуются следующие процессы:
• Ионно-лучевое травление/распыление (IBE/IBM)
• Реактивное ионно-лучевое травление (RIBE)
• Химически-стимулированное ионно-лучевое травление (CAIBE)
• Ионно-лучевое напыление (IBSD)
• Ионно-стимулированное напыление (IASD)
• Реактивное ионно-лучевое осаждение (RIBD)
Все процессы проводятся на пластинах диаметром от 100 мм до 200 мм. В процессах может быть использован широкий спектр материалов.
• Au/Pt/Ti; CMT (CdHgTe); алмаз и DLC; сапфир; YBCO; SiO2; Ni; InP/InGaAsP; GaAs.
Проводимые процессы и материалы, подвергаемые обработке реактивным ионным травлением (RIBE):
• Кварцевые и кремниевые MEMS-структуры; CMT (CdHgTe); Rh; алмаз и DLC; SiO2; InP/InGaAsP; GaAs.
Примеры процессов ионно-лучевого напыления (IBSD):
• Высококачественные покрытия, включая Al2O3, SiO2, Ta2O5; TiO2; DLC; Cr.
• Высокая однородность травления, отклонение не более ± 3% на пластине диаметром 200 мм
• Основана на передовой технологии 35-см ионного источника с 30-см сеткой
• Малые габариты
• Легкое обслуживание и минимальное время доступа к источнику обеспечены размещением источника на дверце системы
• Несколько способов обработки пластин:
o Кассетная загрузка
o Квадратная или шестиугольная кластерная конфигурация
o Монтирование «сквозь стену»
Интуитивно-понятный и дружественный графический интерфейс PC3000TM, позволяющий управлять системой Ionfab300Plus:
• Быстрое обучение пользователя
• Контроль проводимых процессов в реальном времени
• Отображение данных проводимого процесса в реальном времени
• Автоматический сбор данных и ведение отчетов
• Многоуровневый доступ с защитой паролями для обеспечения безопасности
